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關于召開ICMtia—PALL聯合技術講座的通知

關于召開ICMtia—PALL聯合技術講座的通知

來源:
2017/12/19
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  在半導體芯片制造及平闆顯示制造工藝中,如何減少和控制“缺陷及污染”是大家必須面對的棘手技術難題。缺陷和污染成因複雜,不僅對芯片制造工藝的研發進程、成品率有着重大影響,也是為半導體行業提供高質量材料和設備的廠商所面臨的一大技術挑戰。基于此集成電路材料和零部件産業技術創新戰略聯盟聯合美國Pall公司組織召開缺陷控制&過濾技術在半導體及高科技工業中的應用技術講座,本次講座名額有限,請報名者務必參加會議,欲報從速。會議具體安排如下:

  講座主題:缺陷控制&過濾技術在半導體及高科技工業中的應用

  培訓講師:黃丕成 David Huang,Ph.D(美國頗爾公司副總裁/ICMtia專家咨詢委員會特聘專家)

  講座時間:2018年3月8日(周四/全天)

  會議地點:北京市麗亭華苑酒店

  培訓費用:1200元/人(聯盟成員單位優惠價),2000元/人(非聯盟成員單位價格),費用包括:全天課時費 + 培訓講義費 + 工作午餐

  聯系人:鄧希,dengxi@juhua423286.cn,13810427396

  報名方式:請于2018年1月22日之前将下述報名表發送會議聯系人dengxi@juhua423286.cn,過期不再保留名額。報名學員經審核通過後,會務組将于收到回執三天内以郵件或短信方式通知本人。

 

技術講座報名表

 

單位名稱        
姓名 職務 負責業務 手機号碼 電子郵箱
         
         
         

 

ICMTIA-PALL聯合技術講座 – 缺陷控制&過濾技術在半導體及高科技工業中的應用

 

講師:黃丕成 博士, David Huang, Ph.D david_huang@pall.com

(頗爾 Pall Corporation副總裁 / ICMtia專家咨詢委員會特聘專家)

 

【關于講座】

 

  講座簡介:重點是怎樣減少和控制 “缺陷及污染“, 這是個在半導體晶片及平闆顯示制造業中大家必須面對的棘手技術難題。缺陷和污染的成因複雜,和具體的工藝應用條件關系緊密,去除或控制難度大。它不僅對晶片制造工藝的研發進程,成品率有着重大影響,也是為半導體行業提供高質量的材料和設備的廠商一大技術挑戰。

  本課程講解過濾技術在高科技(包括半導體及平闆顯示)中的應用。過濾技術的分類,半導體制造路線圖及對缺陷和污染的要求。這裡,會讨論缺陷的來源,分類,控制及預防。對重金屬離子污染的成因,污染對晶片性能造成的影響,去除污染物對提高成品率的作用,來認識過濾技術對高科技制造業的重要性及緊迫性。通過對缺陷和污染的成因分析,應用高端過濾技術減少缺陷污染,提高半導體耗材質量,提供高端材料;加快晶片制造工藝研發,提高晶片成品率。過濾在半導體及平闆顯示業減少缺陷及污染的應用包括:使用的化工原料,光刻,蝕刻,精磨及清洗等工藝。

  為了幫助學生更好的了解及應用過濾技術,我們也将讨論過濾理論,包括氣體,液體過濾,金屬雜質的去除。作為過濾的核心技術,我們也将讨論過濾膜以便了解其材料性質和與其化學材料的兼容性。介紹過濾器的組裝,測試及流體力學原理。最後,簡介過濾産品,包括頗爾過濾器的選擇和應用。

 

你會學到什麼:

  1. 半導體及平闆顯示業市場走向

  2. 半導體及平闆顯示制造業路線圖,對缺陷及污染的要求

  3. 缺陷及污染的成因,來源及分類

  4. 納米顆粒的去除

  5. 金屬離子的成因,污染及控制

  6. 過濾膜材料性質及其化學材料兼容性

  7. 過濾機理,過濾器組裝

  8. 過濾器選擇及應用

 

适宜聽衆:參與電腦晶片及平闆顯示制作及提供耗材設備的技術員,工程師,技術經理及高校研究生。

 

日程: 一天. 上午 / 過濾在減少和控制缺陷的應用;下午 / 過濾技術基礎及過濾器的選擇

 

【Program 内容】

  Morning 上午

General Introduction 簡介

  · Filtration and High Tech Industries 過濾與高科技

  · Classification of Filtration 過濾的分類

  · High Tech Industry Market and Future Trend 高科技與将來發展趨勢

  · Roadmap for Semiconductor & Flat Panel Display 半導體及平闆顯示制造業路線圖

Defect Control and Yield Improvement 缺陷的控制與成品率的改善

  · Particle Defect 固體顆粒缺陷

  · Metal Contamination 金屬污染

  · In-coming Material Defect 進料缺陷

  · Process Defect 工藝缺陷

  · Defect and Yield 缺陷與成品率

For Semiconductor Manufacturing 過濾在半導體制成中的應用

  · Chemical Solutions 化工液體材料

  · Lithography 光刻

  · Wet Etch Clean 濕蝕,清洗

  · CMP 化學機件抛光

  · Gas Purification 氣體淨化

For Flat Panel Display 過濾在平闆顯示制成中的應用

  · Chemical & Solutions 化工液體材料

  · Lithography 光刻

  · Wet Etch Clean 濕蝕幹淨

Digital Printing 過濾在數字印刷中的應用

  · Degas 去氣體

  · Particulate Removal 去固體顆粒

 

  Afternoon 下午

Filtration Technology 過濾技術

  · Air Filtration 空氣·過濾

  · Liquid Filtration 液體過濾

  · Heavy Metal Removal 重金屬離子分離

Filter Media 過濾介質及過濾機理

  · Membrane 過濾膜

  · Fiber 纖維

  · Metal media 金屬介質

  · Inorganic Media 無機介質

  · Membrane Surface Modification 過濾膜表面處理

Filter Device 過濾器

  · Work Flow 制作工藝流程

  · Flow Dynamics 流體力學

  · Filter Characterization 過濾器檢測

Pall Products & Applications 頗爾過濾産品及運用

  · Wet Processing 濕法工藝

  · Gas Purification 氣體淨化

 

【關于講師】

 

黃丕成 博士 -- 美國頗爾公司副總裁

技術服務部; 半導體材料與工藝專家

 

 

  黃丕成博士現任頗爾公司副總裁,技術服務部。曾任高級全球研發總監,負責新産品開發用于半導體,太陽能,平闆電視生産制作工業。加入頗爾之前,曾任普萊克斯公司CMP研發總監。希捷,英特爾公司主任/高級工程師。黃博士二十多來年長期任職于世界500強公司,從技術骨幹到高管,擁有豐富的一線半導體晶片制作工藝,耗材研發及科研管理經驗。黃博士也曾有過八年的材料基礎科學研究的經曆,曾任職于意大利國家科學院材料所,美國加州伯克利勞倫斯實驗室。

  黃博士獲得美國加州伯克利大學材料科學工程博士,曾在麻省理工學院及澳大利亞科學院學習新産品開發及工程管理,2000年在英特爾公司工作時曾獲得英特爾成就獎(IAA,英特爾頒發給有重大貢獻的職工)。他獲得多項用于半導體晶片,硬盤及半導體工業耗材制作的專利,發表多篇學術論文, 國際會議主旨演講。他曾任中國半導體國際技術年會(CSTIC)及中國太陽能國際技術年會(CPTIC)主席,也曾但任過有關美國學術會議委員。

 

頗爾公司官網:# (中文) # (English)

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